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連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室(高溫高壓鈉流法)
用途:
主要用于碳/碳復合材料、碳/碳-碳/陶復合材料的高溫石墨化、高溫提純處理。
優勢與特點:
最高 溫度可達到3000℃。
新型加熱室結構,加熱更均勻,損耗功率小,更節能。
進口紅外測溫儀,測溫準確,誤差小。
可選項:
爐體形式:立式、臥式
加熱方式:電阻加熱、感應加熱
真空泵組:進口、國內優質品牌
目前該設備已形成系列化產品,不在系列范圍內的可根據客戶要求定制。